반도체 및 디스플레이 用
Fab AMCs On-Line Monitoring System (FAMS) 란?
오염 사고로 인한 공정 이슈를 예방하고 환경 안전 관점에서 문제점 인지 능력을 강화하여
사고 대응 능력 향상을 도모하는 실시간 유해 물질 검출 시스템 입니다.
AMCs
반도체 및 디스플레이 用
하나의 장비로 FAB 내 구역 별 분석 포인트를 지정하여
극미량의 AMCs를 구역 별로 실시간으로 모니터링하고,
문제 발생 시 알람을 통해 인적/물적 사고 피해를 최소화하는
반도체 및 디스플레이 산업에 적합한 장비입니다.
* 반도체 및 디스플레이 공정의 미세화에 따라 AMCs에 의한 오염 영향성이 증가하고 있습니다. 대규모 환경에서 다양한 화학물질에 대해 모니터링이 필요한 반도체 및 디스플레이 산업에 적합합니다.
AMCs에 대해 자세히 알아보기
특징 및 장점
검출 가능 가스 多
SO₂, H₂S, TS, NOx, O₃, TVOC,
VOCs, NH₃, HF, HCl, etc.
측정 포인트 수 선택 가능
4, 8, 16, 24개 포인트 선택 가능
(추가 협의로 상향 가능)
빠른 반응성 및 정확성
분석기의 빠른 속도
정확한 측정값
빠른 샘플링 주기
NEOLAS 자체 프로그램
장비 원격 제어
데이터 트렌드 확인
실시간 누출 감지
고객의 필요에 따라 맞춤 Solution 제공 및 제작 가능
기본 구성
> 분리형 모델
분석기
- 빠른 반응 속도
- 높은 정확도
- 분석기 취사 선택 가능
(SO₂, H₂S, TS, NOx, O₃, TVOC, VOCs, NH₃, HF, HCl, etc.)
샘플러
- 최고 품질의 테플론 자재로
흡착 최소화 및 반응성 향상
- 상시 Cleaning 진행으로
Memory Impact 최소화
- 빠른 Cycle Time
NEOLAS
- 네오탑 자체 프로그램
- 장비 원격 제어
- 데이터 트렌드 확인
(히스토리 및 그래프 제공)
- 포트 제어 (스케줄)
- 윈도우 7, 8, 10 호환
- 실시간 누출 감지
고객 지원 서비스
- 1년 무상 A/S
- 사용자 메뉴얼 제공
- 사용자 교육 제공
- 직원들의 높은 전문성
> 일체형 모델
분석기 + 샘플러
- 빠른 반응 속도
- 높은 정확도
- 분석기 2개 취사 선택 가능
(SO₂, H₂S, TS, NOx, O₃, TVOC, VOCs, NH₃, HF, HCl, etc.)
NEOLAS
- 네오탑 자체 프로그램
- 장비 원격 제어
- 데이터 트렌드 확인
(히스토리 및 그래프 제공)
- 포트 제어 (스케줄)
- 윈도우 7, 8, 10 호환
- 실시간 누출 감지
고객 지원 서비스
- 1년 무상 A/S
- 사용자 메뉴얼 제공
- 사용자 교육 제공
- 직원들의 높은 전문성